第1节 集成电路布图设计专有权

• A.外国人John创作的布图设计没有首先在中国境内投入商业利用

• B.许某申请保护的布图设计不具有独创性

• C.孙某的布图设计自创作完成之日起超过15年

• D.刘某创作的集成电路布图设计符合受保护的相关规定

 查看答案  开始考试

• A.王某为个人使用复制东华的布图设计

• B.王某对东华尚未投放市场的布图设计进行商业利用

• C.王某明知某集成电路含有东华的布图设计仍将其投人商业利用

• D.王某为营利目的复制东华的布图设计

 查看答案  开始考试

• A.未作约定的，其专有权由X公司享有

• B.未作约定的，其专有权由Y公司享有

• C.未作约定的，其专有权由X公司和Y公司共同享有

• D.即使已做约定，也一律由X公司和Y公司共同享有

 查看答案  开始考试

• A.集成电路是以半导体材料为基片

• B.集成电路中需至少有一个是有源元件

• C.集成电路布图设计是一种三维配置

• D.集成电路中须有三个以上元件

 查看答案  开始考试

• A.合议审查

• B.复审程序的终止

• C.实质审查

• D.形式审查

 查看答案  开始考试